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現貨代理kakuhunter高粘度脫泡攪拌機SK-300SII

發(fā)布時間:2025/05/07 19:45:50 發(fā)布廠商:深圳市京都玉崎電子有限公司 >> 進入該公司展臺

核心技術特性?

?公自轉獨立控制?

行星式攪拌結構,公轉與自轉速度可獨立調節(jié),實現高效混合與脫泡。

支持“旋轉切換機構”,公轉方向可單獨調整,減少材料性質變化影響。

?真空脫泡技術?

集成真空泵,可在減壓環(huán)境下快速排除氣泡,降低材料氧化風險

。

部分型號(如SK-300TVS-A)支持常壓與真空模式切換,適應不同工藝需求。

應用領域?

?電子制造?:半導體封裝膠、光學膠水的均質脫泡。

?醫(yī)療制藥?:生物制劑、藥膏的混合與乳化。

?新材料研發(fā)?:納米材料、高分子溶液的分散處理。

?能源行業(yè)?:鋰電池漿料的高效攪拌。

現貨代理kakuhunter高粘度脫泡攪拌機SK-300SII

寫真化學脫泡攪拌機通過其的 ?行星式攪拌結構? 和 ?真空脫泡技術?,能夠高效處理多種材料,尤其適用于對混合均勻性、氣泡控制要求較高的場景。以下是其主要適用材料及對應的行業(yè)應用:


?一、適用材料類型?

  1. ?液態(tài)/半固態(tài)膠黏劑?

    • ?光學膠(OCA)?:用于顯示屏貼合,需無氣泡殘留以保證透光性。

    • ?半導體封裝膠?:如環(huán)氧樹脂、硅膠,需高真空環(huán)境避免固化后內部空洞。

    • ?UV固化膠?:混合后需快速脫泡以維持固化均勻性。

  2. ?高粘度漿料?

    • ?鋰電池漿料?:正/負極材料(如石墨、磷酸鐵鋰)與粘結劑的混合,需強力剪切分散。

    • ?導電銀漿/納米銀線漿料?:避免氣泡影響導電性能。

  3. ?高分子溶液與乳液?

    • ?光刻膠?:半導體光刻工藝中需高純度、無氣泡的膠液。

    • ?醫(yī)用凝膠/藥膏?:如透明質酸制劑、乳膏類藥品的乳化均質。

  4. ?納米材料分散體系?

    • ?納米氧化物懸浮液?(如SiO?、TiO?):防止團聚,提升材料穩(wěn)定性。

    • ?石墨烯/碳納米管分散液?:需高剪切力實現均勻分散。

  5. ?敏感材料?

    • ?生物制劑?:疫苗、細胞培養(yǎng)基等對溫度敏感的材料(部分型號支持低溫攪拌)。

    • ?光敏樹脂?:在真空環(huán)境下減少氧化和光降解風險。


?二、材料處理的核心優(yōu)勢?

  1. ?真空脫泡技術?

    • 真空度可達 ?-0.098MPa?,快速去除微米級氣泡,適用于 ?低表面張力液體?(如硅油)和 ?高固含量漿料?。

  2. ?動態(tài)混合控制?

    • ?低粘度液體?(<1000cP):低速公轉避免飛濺。

    • ?高粘度漿料?(>10,000cP):高速自轉增強剪切力。

    • 公轉與自轉速度獨立調節(jié)(如 ?公轉300-1400rpm,自轉0-2000rpm?),適配不同粘度材料:

  3. ?溫控兼容性?

    • 部分型號(如SK-4000TV)支持加熱/冷卻夾套,可處理 ?熱固化膠水? 或 ?低溫敏感材料?。


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