將 Be~U 中的所有元素(包括 B、C、N 和 O)包含在一個單元中,這些元素是重要的半導體材料
WDX 具有高信噪比和高分辨率,使用可實現(xiàn)比能量色散 X 射線熒光 (EDX) 儀器更準確的分析。 高功率 X 射線管和于輕元素的光譜晶體可實現(xiàn)輕元素測量,例如 B、C、N 和 O,這是 EDX 無法實現(xiàn)的。 此外,由于 Si 的影響,難以用 EDX 分析的 Al 薄膜可以通過高分辨率的 WDX 清晰分離。
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AZX 400 規(guī)格
產(chǎn)品名稱 阿茲 400 技術 掃描波長色散 X 射線熒光光譜法 (WDXRF) 用 分析所有樣品的薄膜厚度和成分,例如 φ50 mm 至 φ300 mm 的晶圓、芯片、切割的晶圓等。 科技 將 Be~U 中的所有元素(包括 B、C、N 和 O)包含在一個單元中,這些元素是重要的半導體材料 主要組件 4 kW 封裝 X 射線管、掃描測角儀、初級 X 射線濾光片、φ 30、20、10、1、0.5 mm 視場限制裝置 選擇 晶圓加載器、SQX 軟件、CCD 相機 控制 (OC) 外部 PC、MS Windows?作系統(tǒng)、同步涂層厚度成分分析標準軟件 本體尺寸 1376 (W) x 1710 (H) x 890 (D) 毫米 重量 約 800 kg(主機) 權力 三相 200 VAC 50/60 Hz,50A
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